聚酰---薄膜(polyimidefilm)是上的薄膜类绝缘材料，由均---四---二酐(pmda)和二胺基二---醚(dde)在强极性溶剂中经缩聚并流延成膜再经---化而成。
聚酰---是已经工业化的高分子材料中耐热性的品种，以作为薄膜、涂料、塑料、复合材料、胶粘剂、泡沫塑料、纤维、分离膜、液晶取向剂、光刻胶等在---领域得到广泛的应用。我国 60 年代末可以小批量生产聚酰---薄膜，已广泛应用于航空、航海、宇宙飞船、火箭、原子能、电子电器工业等各个领域。
（1)耐辐射性:
聚酰---胶带薄膜吸收的辐射量时仍然可以保持百分之八十五以上的强度，而一种的纤维状聚酰---胶带经过更高强度的辐射依然可以保持百分之九十以上的强度。
(2)介电强度:
聚酰---胶带结构中有淡基与---，相邻的基团与醚键的共扼体系降低了分子的极性，使得聚酰---胶带有---的绝缘性能。引入其他原子改性的聚酰---胶带的介电常数可以降低到2.5，杜邦pi费用，并且可以在相当广的温度范围和频率范围保持90%以上的性能。
聚酰---作为很有发展前途的高分子材料已经得到充分的认识，在绝缘材料中和结构材料方面的应用正不断扩大。在功能材料方面正崭露头角，其潜力仍在发掘中。但是在发展了40年之后仍未成为的品种，其主要原因是，与其他聚合物比较，成本还是太高。因此，今后聚酰---研究的主要方向之一仍应是在单体合成及聚合方法上寻找降低成本的途径。
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